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HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理

更新時間:2022-11-03   點擊次數:2372次

HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理的應用

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理的工藝是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中,通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底,這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想,這會導致后續的光刻顯影環節出現“裂紋"甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善,這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏,也稱為HMDS預處理。

HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理設備

  JS-HMDS90 是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝,同一個容器中進行,晶片在箱內先經過100℃-200℃的去水烘烤,再進行HMDS處理,不需要從箱內傳出,而接觸到空氣,晶片吸收水分子的機會大大降低,所以有更好的處理效果。

  HMDS(六甲基二硅氮烷)表面處理設備將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。


HMDS藥液低液位報警:

自動吸取HMDS:

可自動添加HMDS:

HMDS藥液泄漏報警:

HMDS氣體管路加熱系統:

參數記錄功能:

溫度與程序互鎖功能:

容積大小:350*350*350/450*450*450(mm)可定制

溫度范圍:RT+10-250℃

真空度:≤133pa(1torr)       

控制系統;人機界面+PLC

擱板層數:2層


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