精密烤膠機，高精度烘膠臺研制背景：

    光刻工藝及其相關(guān)技術(shù)是微電子機械系統(tǒng)(MEMS)加工工藝的重要組成部分.均膠和烘干是光刻工藝中*的一道工序,為增加膠層與硅片表面粘附能力,提高在接觸式曝光中膠層與掩模版接觸時的耐磨性能及穩(wěn)定膠層的感光靈敏度,通常采用烘箱或熱板等加熱設備對光刻膠進行干燥.由于熱板易于達到在膠的厚度方向快速均勻烘干等要求,目前越來越多地采用電熱板加熱的方式. 熱板的表面溫度均勻性,溫度控制精度,溫度上升速度等是熱板的主要性能指標.我司針對研究的需要設計了一種溫度控制精度高,板面溫度均勻性好,成本低的電加熱板,用于光刻膠的烘干.

精密烤膠機，高精度烘膠臺應用行業(yè)：

    用于晶圓的單面烘烤，可用于預烘烤（Pre-bake），前烘（soft bake），底膠涂覆（Primer Vapor）和后烘烤(hardbake堅膜)工藝。適應于半導體硅片，掩膜版（光罩），柔性電路，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝，制版的表面涂覆后，薄膜烘干，固化。

精密烤膠機，高精度烘膠臺的性能：

加熱面積尺寸：160mm*160mm、220mm*220mm，多尺寸，多工位定制  

控溫范圍：室溫--200、300℃

溫度分辨率 ：0.1℃     

溫度波動度：≤±0.5℃         

溫度均勻性：≤±0.5℃

電源輸入：AC220V 10A           

加熱功率：1500W

熱板表面:由硬質(zhì)陽極氧化鋁制成

可定制功能：

支撐pin材料

邊緣支撐pin

N2吹掃，無氧化烘烤

烘焙距離可調(diào)模組

真空腔體

智能控制系統(tǒng)